真空爐石墨支架頭的微觀結構查看辦法首要包含以下步驟：
運用掃描電子顯微鏡（SEM）查詢：
       樣品準備：為了保證查驗結果精確，需堅持支架的查驗面均一平坦。實驗時可運用刀片切開支架，盡量保證支架的查驗面光滑平坦。在載物臺上粘上導電膠，保證支架可以完全沾在載物臺上，使得查驗時可以得到無缺的圖像。操作完這一步后，需求去掉樣品表面的塵土雜質，一般實驗中運用氮氣吹掃，保證樣品潔凈有利于得到樣品真實的圖樣。由于支架盡管或許添加了石墨烯等成分，但導電性仍需承認，因而需求進行噴金操作。
      查詢與記載：將樣品按照掃描電鏡的操作規(guī)范置于其間，并按規(guī)范操刁難樣品進行查詢，記載石墨支架頭的微觀描摹，包含晶體結構、孔隙率等。
X射線衍射（XRD）分析：
      樣品選取與制備：選取具有代表性的石墨支架頭樣品，并在檢測前研磨成粉末以保證查驗精度。
      查驗參數設置：X射線衍射的首要查驗參數為CuKa輻射，管電壓、電流分別為40.0kV和40.0mA，掃描角度規(guī)模為10-60°，步長為0.01313°。
      分析與記載：通過XRD分析石墨支架頭燒結前與燒結后的物相及改動，判別石墨是否完全氧化。
原子能譜（EDX）分析：
      查驗目的：運用EDX能譜分析石墨支架頭燒結前后的鈣磷比以及元素含量，進一步驗證石墨是否完全氧化。
      查驗辦法：EDX打能譜時分別在燒結前的石墨支架頭包含石墨的方位和燒結后包含石墨殘留微孔的任意方位取點，分析各元素的散布與原子占比。取樣點收集時刻10s，處理時刻4s，電子加快電壓15.0kV。